HiPIMS 溅射涂层系统

CC800®/9 HiPIMS 系统性能数据

涂覆面积 Ø x h[mm]Ø400 x 400
转台 Ø x 行星数[mm], numberØ400 x Ø130 x 6
快速更换转台
可选
溅射阴极items [mm]6 x 500
最大装载尺寸Ø x h[mm]Ø400 x 800
钻头装炉量 Ø6 mm x 60 mm1,800
刀片装炉量 12.7 mm x 3.5 mm4,920
最大装载重量[kg]250
10 mm 铣刀3 μm HPN1 的循环时间[h]4.5 (HPN1)
工艺
HiPIMS和离子增强直流溅射工艺,可沉积所有CemeCon涂层
基体预处理(离子刻蚀)
Booster, MF 和HiPIMS 刻蚀
导电涂层
YES
非导电涂层
YES
非导电基体
YES
额定功率[kW]80
3μm HPN1的10 mm 铣刀每炉次功率消耗[kWh]120
外形尺寸 (w x l x h)[mm3]1,450 x 3,350 x 2,200
重量(空载)[kg]~ 3,200


CC800®/9 HiPIMS

CC800®/9 HIPIMS为刀具提供特别坚硬、极具韧性、抗氧化的涂层用于加工诸如不锈钢、钛或镍基合金的材料。对于这些难机加工材料,须配备CemeCon的最新HIPIMS专利技术。

近乎百分之百的高金属离化率保障了涂层最佳的附着性。划痕试验验证负荷可超过130N。此外,HIPIMS在复杂3D外形上可形成均匀涂层分布——得益于最高可到2.5um/小时的高沉积率——可使加工处理时间非常短。6个独立的可控溅射阴极确保了涂层处理的最大灵活性。

近乎百分之百的高金属离子化保障了涂层最佳的附着性。划痕试验表面,其验证负荷可超过130N。此外,HIPIMS在复合3D外形上可形成均匀涂层分布——感谢最高可到2.5um/小时的高堆积率——可使加工处理时间非常短。6个独立的可控制的溅射阴极确保了涂层处理的最大灵活性。


CC800®/9 HIPIMS优势一瞥

  • 高沉积速率

  • 最佳的附着力

  • 出色的涂层均匀性

  • 从研发至生产的灵活延伸性

  • 杰出的性能

  • HiPIMS-阴极平均功率最大4x10 kW


涂层量





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